半导体废气处理设备的关键部分便是催化燃烧炉，催化燃烧炉内设加热室，启动加热装置，废气便进入内部循环，当热气经过活性炭吸附箱，吸附在活性炭中的的浓缩废气便会会发出来，然后进入催化燃烧室内进行催化分解，变成水和二氧化碳，同时释放出能量。与此同时，释放出的热量被再次循环，进入吸附床脱附时，此时加热装置便可停止工作，利用余热使有机废气在催化燃烧室内维持自燃，循环进行，直到有机物完全从活性炭内部分离，至催化室分解。这样，活性炭得到了再生，有机物业得到分解处理。

活性炭吸附催化燃烧预处理阶段：由于大多废气中都含有不同浓度的颗粒及粉尘，因此本装置必须有前置处理装置，为了保证进入活性炭吸附箱的废气中颗粒物小于 5mg/m3，废气催化燃烧装置在前端设置干式过滤器。干式过滤器由初级、中级、高级三部分组成，目的就是保证活性炭不被堵塞，保证其吸附效果。

半导体废气处理设备工业废气处理工程案例：

半导体废气处理设备解决了如下问题：

1、解决了安全问题。只需要200-400℃即可将几乎所有的有机物催化分解，规避了常规TO、RTO、RCO等焚烧面临的火焰安全隐患。

2、解决了净化效率问题。其效率高达99%以上，其他净化方式(冷凝回收、TO焚烧、吸附、等离子、光解等)较低、无法达标排放的问题。

3、解决了投入成本问题。与RTO常规RCO等相比活性炭吸附脱附催化燃烧装置投入成本约为RTO的50%。

4、解决了运行成本问题。与吸附方法相比，废气催化燃烧装置运行成本极低，在浓度大于1000ppm的工况下几乎可以维持自我正常运行，无需消耗其他能源。

5、解决了人员维护问题。整套装置全部采用PLC自动化控制系统，根据浓度、温度的变化趋势进行自动调节。

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